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第64章 星晓11asml euv发布（第3页）

单说那个光刻机双工作台的核心技术，11年获得国家02专项立项至今，思念过去了还没出结果。

技术攻破首要是资金，没有资金学人开什么公司？做什么技术开发？

凭那么点天真热血的冲动想法而忽略了脚下不牢靠的基石，太蠢了。

郑河如是冷漠傲慢的想着，打发走计海，将消息简单汇报给陈天鹤。

陈天鹤正从私人专机上下来，落到美国的土地上。

“陈惊璆的事以后不用跟我说。”陈天鹤冷漠的说。

他抬头观看这座灯火通明的城市——

加利福尼亚州圣迭戈市，高通总部。

陈天鹤此行的目的。

光源系统是光刻机制造的核心，是晶圆光刻工程的起始步，与光刻工程后续每一步息息相关。

光源系统主要三大单元是光的产生、收集和均一化，初代光刻机的光源系统还包括光的纯化，但第四代、第五代的激光器产生的光源已经达到要求，只需要让光均匀化就行。

光是雕刻的工具，由激光器产生，涉及三项技术指标即光刻分辨率、套刻精度和产能。

光刻分辨率有一道计算公式，照公式调整影响因数从而提高光刻分辨率，这方面难度不大，但是受掩膜设计、抗蚀剂工艺等牵制，必须同时达到最佳化才能实现理想的光刻分辨率。>r>

套刻精度与光刻分辨率相关，直接受其影响。

至于产能，则与光源系统的稳定相关。

以上是对激光器的要求，相对整个光源系统的技术要求不算高，系统工程程序中最难的步骤是光的收集。

收集难度大，转化效率也低。

雷客坐在电脑前，『操』纵鼠标在软件里做精密的计算：“所需的极紫外光必须在真空下进行反『射』，不能被折『射』，因为它非常容易被吸收。真空腔内的反『射』镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆……经过十几次反『射』，最终剩下的光线不到2！”

围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。

光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三万度。

光线利用率不到2已经是优化其他『性』能所能够得到的最佳数据，决定该『性』能优化的决定『性』关键就是反『射』镜的精度。

“精度必须以皮秒来计算。”

换句话说，光刻机所需的反『射』镜精度必须打磨到万亿分之一米。

盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”

当下有人反驳：“都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了！”

难度多大？

最浅显易懂的比喻便是将一面直径不超过四十厘米的反『射』镜放大至覆盖地面，其平面起伏不能超过一根头发的直径。

而光刻机所需的反『射』镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。

全球只有德国蔡司这家传承三代以上的企业才造得出这种反『射』镜。

当然，反『射』镜不对华出口。

盛明安：“不用担忧反『射』镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反『射』镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”

“数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。”

盛明安语速打机关-枪似的，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有的技术难点都可以被轻松解决。